[注：本文完成并发表于12年前，但对于我国的现状仍有参考价值。]

    进入本世纪80年代后，在高技术领域里，美国发起了一系列针对日本企业的专利战。1983年5月，美国ECD能量转换设备公司向新泽西州联邦地方法院起诉日本松下电器产业公司，指控松下公司开发的“可重写式大容量光盘”侵犯了ECD公司的半导体开关元件专利权，要求禁止松下公司制造、销售、展览该产品，并要求赔偿损失。在法庭上，松下公司矢口否认侵犯了ECD公司的专利权。最后，法院判决：(1)禁止松下公司在美国制造和销售“可重写式大容量光盘”产品；(2)松下公司向ECD公司支付300万美元的补偿费。松下公司败诉，使得日本的日立制作所、旭化成工业公司等企业不得不屈服于ECD公司的专利攻势，相继与ECD公司签订了专利实施许可合同。① 

    1984年，美国科宁·格拉斯·沃克斯公司(简称科宁公司)于3月和12月分别向美国国际贸易委员会(ITC)和纽约联邦地方法院起诉日本制造光导纤维的头号厂家住友电工公司，指控其生产并向美国出口的光导纤维侵犯了科宁公司有关光导纤维结构和光导纤维组制造方法的专利权。后来，ITC和法院均判住友公司侵权。1989年11月，住友公司与科宁公司达成和解，由住友公司向科宁公司支付2500万美元的和解金。①②

    1984年10月，美国ITC根据美国阿莱德公司的指控，判决新日铁、日立金属、TDK三家日本公司侵犯了阿莱德公司有关非结晶金属制造方法的专利权，禁止进口这三家公司的非结晶合金。接着，阿莱德公司又以专利为武器，迫使新日铁等公司每年支付2300万美元的专利使用费以换取在日本国内的销售市场。①②

    1986年初，美国得克萨斯仪器公司(简称TI公司)向美国ITC起诉，指控日本的富士通、东芝等8家公司侵犯了其有关半导体的专利权。后采，富士通、东芝、三菱、松下、夏普等公司被迫与TI公司签订了为期5年的专利许可合同，TI公司每年因此而取得了数亿美元的专利使用费。该许可合同于1991年到期后，TI公司又针对日本半导体企业，要求大幅度提高专利使用费，由原来占产值的3％提高到10％。日立、理光、东芝、夏普、松下等公司被迫接受TI公司的这一要求，付出了数亿美元的专利使用费。只有日本第一大计算机生产厂家富士通公司认为这一要求无理而拒付使用费，于是TI公司向日本东京地方法院起诉富士通公司。③目前，尚未见到有关这一案件的判决结果。

    1987年4月，美国Honeywell公司(简称HW公司)向明尼苏达州地方法院起诉日本美能达照相机公司，指控美能达公司生产的照相机侵犯了其有关自动对焦技术的专利权。经过近5年的诉讼，于1992年3月双方达成协议，由美能达公司一次性支付给HW公司1．275亿美元的和解金，其中包括9635万美元的赔偿费及HW公司的律师费用等。5个月后，HW公司又对尼康、佳能等5家日本照相机厂商提起诉讼，迫使这些公司支付了1．241亿美元的和解金作为1986年3月到1992年3月间使用HW公司有关自动对焦技术专利的费用，并且规定专利使用费—直要支付到1995年3月为止。HW公司还声称要对日本摄像机制造商采取同样的行动。据估计，HW公司最终可以从其自动对焦技术专利中取得10多亿美元的专利使用费。④⑤

1987年8月，美国詹纳特克公司向日本大阪地方法院起诉日本东洋纺公司，指控东洋纺公司生产的血栓溶剂药品侵犯了其有关治疗心肌梗塞特效药血栓溶剂专利权。法院判决原告胜诉，禁止日本东洋纺公司继续制造、销售血栓溶剂新药。⑥

1992年，美国洛拉尔——仙童公司起诉日本的索尼、松下、夏普、佳能、东芝、日本电气等公司侵犯了它的被称为“电子眼”的电荷耦合器专利权，声称侵权造成的损失达数十亿美元，要求上述公司支付其产品销售额的10％作为专利使用费。⑤

这一场接一场的高技术专利战，只是近年来公开披露的上百起日美高技术专利战的几个片断。另外还有数百起的专利战是在悄悄地进行的，通常是由日本企业向美国企业支付赔偿金和解了事。

那么，为何近年来美国企业以专利为武器，在高技术领域对日本企业接连“大打出手”，而日本企业却又只好“委曲求全”呢?

近年来，日美之间的贸易摩擦日益加剧，美国同日本的贸易逆差每年达数百亿美元。为缩小同日本的贸易逆差，美国采取了一系列贸易保护措施，同时向日本施加压力，要求其开放市场，但收效甚微，与日本的贸易逆差仍然居高不下，每年达五、六百亿美元之多。于是，基于以下几方面的考虑，美国人把目光转到了高技术领域及其专利方面：

第一，与日本相比，美国在高技术领域有较明显的优势，特别是许多高技术的基本专利都掌握在美国人手里，因而在高技术专利战中美国无疑处于非常有利的地位。

应当指出，许多高技术的基本专利，事实上是美国人利用专利的垄断性在数年甚至十几年前就设下的埋伏，只不过那时的日本在高技术领域中还未成为美国的竞争对手，尽管当时就存在侵犯专利权的行为，美国也未予以深究。但进入80年代后，美国在高技术领域的霸主地位受到日本日益强大的挑战。在这种情况下，美国人希望借助专利攻势，遏制日本的咄咄逼人之势。

第二，美国同日本每年数百亿美元的贸易逆差中，高技术产品特别是半导体产品的贸易逆差占有相当大的比重，达200亿美元以上。因此，美国利用其在高技术领域专利方面的优势，以专利战为手段，遏制日本高技术产品的进口，达到减少直至消除贸易逆差的最终目的。

第三，高技术的研究开发投资大、成本高，而且具有很大的风险，然而一旦开发成功则获利很大。这就决定了高技术专利的许可使用费高，因高技术专利被侵权而取得的赔偿金也大，动辄数百万元，有的甚至高达数亿美元。这样，美国人借助专利战，取得高额的专利使用费或赔偿金，以平衡其巨大的贸易逆差。

由此看来，美国同日本贸易逆差的存在，是日美爆发高技术专利战的重要根源，并且只要这种逆差还存在，日美高技术专利战就将继续进行下去，甚至有可能进一步激化。

日美高技术专利战，绝大多数是以日方惨败而告终。据对美国国际贸易委员会受理的50件涉及日本企业的专利纠纷进行调查，日本企业胜诉的只有1件。另据日本机械出口协会的调查，在私下了结的281起日美企业专利纠纷中，有219起以日本企业赔款了事。④日方在日美专利战中处于如此劣等地位，确实令人难以置信，这与日本作为年批准专利量达50万件的世界第一专利大国是极其不相称的。

然而，深入研究一下不难发现，日本处于这种局面，又有其必然性：

第一，日本作为世界第一专利大国，只是就数量而言的。事实上，由于日本过去对基础研究不大重视，缺乏独创性技术，所取得的专利中属于基本专利的极少，大多数是在美国的基本专利基础上对技术细节进行改进而取得的“改进专利”。这种依赖于基本专利的改进专利，在专利战中虽有一定的威力，但却无法与基本专利相抗衡。

第二，日本企业不适应美国ITC的诉讼程序。按ITC的规定，ITC在受理起诉30 日之内开始调查，一年之内做出结论。被告必须在短时间内收集证据来否认侵权的指控，答辩书必须在20天内完成。由于远在异国他乡，语言不通，使外国的被告处于十分不利的地位。相比之下，ITC诉讼对美国本国的企业却十分有利。因此，在ITC受理的诉讼案中，包括和解在内，专利权人的胜诉率比在法院的胜诉率高40％以上。鉴于这种情况，视ITC为鬼门关的日本企业，往往不敢积极应诉，只好请求和解。

第三，日本企业不适应美国法院的诉讼制度，尤其是美国的陪审制度。日本美能达公司的董事吉山一郎在谈到他接手处理与美国HW公司关于自动对焦技术专利纠纷的心情时说：“如同一个不会游泳的人突然掉入大海里一样。”不熟悉美国的诉讼制度，也就难免会败诉。另一方面，美国的陪审员对专业性极强的专利问题不大了解，甚至一窍不通，同时因激烈的贸易摩擦导致包括陪审员在内的美国国民对日本人的厌恶情绪，往往影响着判决的结果。这种影响势必使日本企业减少胜诉的机会。

第四，日本企业对美国市场的依赖性太强。日本产品的外销市场主要在美国，高技术产品尤其如此。日本企业视向美国出口产品为生命线，特别惧怕美国动用《关税法》337条款和《贸易法》中的“超级301”条款来禁止日本产品输美。为求得美国的市场，一些日本企业即使确信自己没有侵犯对方的专利权，也不敢把官司打到底，往往忍气吞声，求得和解。

在同美国的高技术专利战中，日本企业可谓胆颤心惊。但是，这只是暂时的现象。日本方面正在以其强大的经济力量作后盾，积蓄力量，制订对策，准备反击。目前已公开的措施中，主要有：

第一，加强基础研究，改变以追赶型研究开发为主的体制，重视独创性高技术的研究开发，力争在新开辟的高技术领域多取得一些基本专利。这项措施在超导技术领域已取得初步成效，但要彻底缩短与美国在基础研究方面的差距，还需经过若干年的艰苦努力。

第二，加强对美国有关法律的学习研究。一方面，日本各企业纷纷选送其专利部或知识产权部工作人员到美国的律师事务所、大学的法学院学习，实地进行研究。另一方面，请美国的律师到日本介绍美国处理专利诉讼的法律程序以及和解、调停等法庭外的解决办法。进行处理专利纠纷的模拟训练，以增强应急和自卫能力。日本经济团体联合会于1992年6月还专门召开了“日美专利纠纷，日本怎么办”的紧急讨论会。日本通产省在其知识产权研究所内设立了“关于知识产权诉讼的调查委员会”，以支持日本企业对付美国的侵权诉讼，研讨对策。

第三，发挥日本企业在“改进专利”方面的优势。目前，日本开发的大量改进技术正在美国取得专利(约占美国每年批准专利总量的20％)，由于专利技术产业化的滞后性，在5～10年后这些改进专利将发挥威力，在美国大赚其钱。而大量的美国基本专利到那时已超过保护期限，正如一位日本工程师所言：美国教会了日本怎样利用专利赚钱。

当然，在日美高技术专利战中连连得手的美国企业，决不会坐等日本的反击，它们会在已有的胜利基础上，发起新的攻势。因此，日美之间的高技术专利战，将是长期的。

如上所述，日美之间的高技术专利战远没有结束，相反还将会日趋激烈，而且“战火”有向包括中国在内的其他国家蔓延的趋势。近来不断披露的中美间包括专利在内的知识产权纠纷，已经预示随着贸易摩擦的加剧，中美间爆发专利战已不可避免。与此同时，日本也将仿效美国当初对付日本的专利战略来对付中国。一位日本教授坦诚相告：不仅美国，日本也将会对中国发起专利战。事实上，日、美等发达国家，围绕高技术，已在我国及其他有关国家布下了为数不少的“专利地雷”，对我国高技术的发展及高技术成果的产业化、国际化构成了严重的障碍。以稀土永磁材料为例，我国的技术水平与日、美相差不大，并拥有占世界总储量80％以上的稀土矿资源和占世界总需求量80％的钕铁硼产品生产能力，因国内的需求量仅占实际生产能力的7％～8％，我国生产的钕铁硼产品90％以上要外销。但由于关键技术的专利主要为日、美所拥有，外销受到日、美专利的限制，到1990年底为止，已遭到美、日80多次的严重警告甚至威胁。为了能在国外销售钕铁硼产品，仅中科院“三环”新技术开发公司就花去了400多万美元购买日、美的专利许可。这种情况并非绝无仅有。在计算机领域，仅1993年，美国公司对我国台湾省就发起4起以上专利攻势。随着我国即将“复关”及关贸总协定乌拉圭回合谈判中签订的“知识产权协议”的生效，我国与日美等发达国家的专利纠纷将日趋增多，因此必须及早做好准备，采取相应的对策。目前，当务之急是要加强专利教育，增强全民的专利意识，提高运用专利战略的自觉性。同时，要大力培养专利人才，使他们既懂得本国法律，又熟悉国外有关法律。另外，政府部门应采取一定措施如扶持一批专门的专利诉讼咨询服务机构、设立专门的基金等帮助国内企业参与国际专利诉讼。

 

 

1、[日]鸠本久寿弥太编著，张国生译．《专利战争》．专利文献出版社1989年10月出版

2、马秀山编著．《说三国谋略，话专利经营》．专利文献出版社1993年8月出版

3、梁所杰译．TI公司与富士通公司专利之战正酣．中国专利报．1992年3月16日

4、翟羽伸．日美之间知识产权的纠纷．科技日报．1993年3月3日、17日

5、陈文晃．专利使用费收入已成为美、欧公司的一大财源．中国专利报．1992年8月10日

6、赵东波．日本一企业在生物新药专利案中败诉．法制日报．1992年1月8日

作者简介：朱雪忠，中南财经政法大学知识产权学院院长，国家重点人文社科研究基地知识产权研究中心研究员，教授，博士生导师。

  （原载《科学学与科学技术管理》1994年第9期）